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T1  - Metrology of deep trench etched memory structures using 3D scatterometry

JO  - Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XIX,  Pts 1-3

PY  - 2005/05/10

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AU  - Dost R

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AU  - Raymond CJ

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ED  - Silver RM

DO  - DOI: 10.1117/12.599342

VL  - 5752

SP  - 559

EP  - 569

Y2  - 2026/07/14

ER  -